Green ICT @ FMD Reference DataNMP (N-Methyl-2-pyrrolidon) – Ersatz

Technologiebeschreibung:

NMP (N-Methyl-2-pyrrolidon) wurde zuletzt als CMR-Stoff/reproduktionstoxisch eingestuft und kann demnach das ungeborene Kind im Mutterleib schädigen. Außerdem kann es die Augen, die Haut und die Atemwege reizen. Daher ist eine Substitution von NMP notwendig. NMP wird in den folgenden IPMS Technologien benutzt: Zum Einen Lackablösen (Technologie AME-75) von 34µm dickem Schutzlack AR-PC5000 (Hersteller Allresist) und zum Anderen Lift-Off von Metall und Metalloxid (Technologie ISFET) von negativen Fotolack nLof AZ2070 (Hersteller Merck) und AR-N2220 (Hersteller Allresist). Mehrere Kandidaten wurden für die Substitution von NMP in Betracht gezogen. Die Kandidaten müssen verschiedene Anforderungen erfüllen, um für die Qualität unserer Prozesse und Produkte geeignet zu sein. Nach der Analyse der Eigenschaften aller Kandidaten wählten wir mehrere aus, um Experimente durchzuführen, welche die Wirksamkeit und die Qualität der Substitute als Ersatz für NMP bestimmen sollten.

Bezugsgröße:

Liter

Copyright:

Systemgrenzen:

Methodische Aspekte:

Von den beiden Technologien wurden zum Zwecke der Substitution Kurzversionen bzw. Testwafer hergestellt. Wir haben die Partikelanzahl und -dichte auf sauberen Dummy-Wafern sowie auf Testwafern gemessen, nachdem sie mit verschiedenen Lacken beschichtet wurden, welche für die NMP-Substitution in Frage kamen. Wir entfernten die Lacke mit NMP und mit dem Substituten parallel. Anschließend verglichen wir die Ergebnisse miteinander. Im Falle vom Lift-Off Prozess zählten wir auch, wie viele Strukturen richtig befreit wurden mit dem NMP-Ersatz und vergleichen dies mit NMP.

Datenqualität, -herkunft:

Die Daten kommen aus eigenen IPMS Messungen. Mikrometerfeine Defekte sowie die Oberflächenrauheit wurden über halbautomatische Oberflächen-Scans detektiert, analysiert und zwischen NMP und Substitut verglichen. Weiterhin wurden an Mikroskopplätzen und Probertischen händisch und halbautomatisch-unterstützt systematisch Mikroskopaufnahmen der Oberflächen gemacht und miteinander verglichen. Weiterhin wurden mittels AFM und einem Defektdichtemeßgerät weitere Daten erhoben erhoben.